一、產(chǎn)品功能和用途：

       型號(hào)：WS-RZK-800

　真空熱處理淬煉爐系統(tǒng)屬于高壓氣猝爐，是一種電阻加熱氣冷爐，采用真空輻射方式加熱，氣體快速冷卻，氣體冷卻壓力可調(diào)且高壓力大于 6bar(絕壓)的熱處理設(shè)備，該設(shè)備可用于淬火、退火、回火、固溶、時(shí)效等真空熱處理工藝。真空熱處理快率爐由真空室、抽真空真系統(tǒng)、壓力測(cè)量裝置、加熱風(fēng)、保溫隔熱屏、高壓氣淬系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)及試驗(yàn)臺(tái)架組成

　1、 為熱處理作業(yè)提供高真空環(huán)境，滿足高真空熱處理的真空度需求，真空腔室為不銹鋼爐膛，配備干泵、分子泵組成的真空泵組，禁止使用油泵。

　2、為熱處理作業(yè)提供高溫烘烤環(huán)境，滿足高真熱處理的溫度需求，配備多層金屬熱屏蔽，帶狀加熱絲。

　3、 設(shè)備可通過程序自動(dòng)升溫，可控制升溫速率、可設(shè)置分段加熱，并具備通過真空度檢測(cè)反饋控制加熱升溫的功能。

　4、配備冷卻水機(jī)，對(duì)真空法蘭、爐膛外壁進(jìn)行冷卻。

　5、配備可拆換樣品托盤，材質(zhì)為鉬或陶瓷。

　6、具備小型化特點(diǎn)，占地面積小，搬運(yùn)靈活。

　7、配備充氣口可充入保護(hù)氣體

　8、干泵配備減震裝置，降低運(yùn)行的振動(dòng)

      二：真空熱處理淬煉爐系統(tǒng)主要技術(shù)參數(shù)

　真空

　1、工作真空度：5.0×10-2Pa(熱態(tài))，冷態(tài)極限真出≤1.0×10-2Pa.在冷態(tài)、空載狀態(tài)下系統(tǒng)從大氣開始抽氣，30分鐘可達(dá)到2 Pa.60分鐘可達(dá)到 5.0×10-1Pa， 壓升率不大于 1Pa/h

　2、高工作溫度： 1200℃，保量過程中溫度波動(dòng)小于±2℃。

　3、 室溫極限真空度：2.0×10-4Pa(室溫)

　4、抽速：從大氣30分達(dá)到0.1Pa，60分達(dá)到5.0×10-4Pa。

　5、容量：可以容納不小于50Kg樣品重量。

　6、壓力測(cè)量范圍：1.0×10-5Pa至3.0×105Pa。

　2.2.2：加熱

　1、高加熱溫度：1200℃

　2、 高升溫速率： 15℃/min

　3、 較低升溫速率： 0.1℃/min

　4、高升溫程序段數(shù)量： 20

　5、控溫精度：±2℃

　6、溫度過沖：<10℃

　7、外壁溫度<50℃(開水機(jī)時(shí))

　8、空爐、密閉狀態(tài)下，從1100℃冷卻至 200℃用時(shí)不超過5 min:

　9、具備冷卻水溫、水壓報(bào)警功能

　其它要求

　1、 外型尺寸：整體設(shè)備小于2.5*1.5*1.8米，設(shè)備可設(shè)計(jì)成可拆分結(jié)構(gòu)以滿足此要求

　2、有效實(shí)用尺寸：300mm×300mm×400mm

　3、放氣閥：1×KF16

　4、噪聲：滿足工業(yè)場(chǎng)所噪聲標(biāo)準(zhǔn)

　結(jié)構(gòu)與安裝要求

　真空熱處理設(shè)備獨(dú)立放置，應(yīng)有清晰的標(biāo)識(shí)，便于指導(dǎo)人工連接。

　接口要求

　采用標(biāo)準(zhǔn)真空密封法蘭。

　產(chǎn)品涂覆、標(biāo)識(shí)要求

　應(yīng)在該設(shè)備外醒目位置上安裝銘牌，銘牌中有產(chǎn)品名稱、型號(hào)、出廠編號(hào)、出廠日期和承制單位等內(nèi)容。

　本臺(tái)真空熱處理設(shè)備主要分為真空系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、電控及冷卻系統(tǒng)四部分組。

　本設(shè)備為高真空鉬膽加熱距式前開門設(shè)備，真空容器主要由優(yōu)質(zhì)S30408不銹鋼制造，為了防止高溫對(duì)人體燙傷所以容器做成了兩層，中間一層用來通水冷卻。所有抽氣設(shè)備裝在儀器內(nèi)，真空及加熱系統(tǒng)在控制柜上面的平板電腦上操作，本系統(tǒng)將真空加熱合為一體，提高了系統(tǒng)的集成性與穩(wěn)定性，操作使用簡單方便，同時(shí)系統(tǒng)還具有一定的擴(kuò)展性和冗余性便于后續(xù)功能擴(kuò)展的是真空度和溫度設(shè)備控制的核心。

　將被試驗(yàn)件放入真空腔內(nèi)，再將真空腔爐門關(guān)上(加熱為內(nèi)鉬膽加熱式)，就可開始工作。將真空抽至工藝規(guī)定的指標(biāo)后，可加熱，并開啟高真空內(nèi)的加熱系統(tǒng)，可使器件內(nèi)管壁氣體分子及高真空管道內(nèi)壁上氣體分子脫附，并通過真空系統(tǒng)將其抽走。經(jīng)過一定時(shí)間后，使器件內(nèi)真空度達(dá)到工藝所需的真空度要求，就可進(jìn)行陰極分解或器件的熱處理工藝，完成真空工藝流程。

　（其他詳細(xì)資料請(qǐng)致電我司獲取!）